11月9日～11月10日，全国第三次印刷显示及关键材料技术研讨会在我校华南先进光电子研究院召开。研讨会由我校彩色动态电子纸显示技术研究所承办及筹备组织。中国科学院化学研究所、中国科学院金属研究所、浙江大学、武汉大学等14所国内著名研究所、高校的印刷显示领域专家以及TCL集团股份有限公司、上海天马微电子有限公司等知名企业共计33家单位100余名相关代表参加了研讨会。
　　11月9日下午，全国第三次印刷显示及关键材料技术研讨会开幕。我校东省领军人才周国富教授对与会专家代表表示热烈欢迎。他指出，本次研讨会是在前两次沟通会议所达成共识的基础上召开的，希望会议能够进一步把握行业发展方向，提出战略性意见和建议，通过相关技术的产业化实现合作共赢。
　　研讨会按照“可印刷发光/反射显示材料、TFT（薄膜晶体管）材料体系”与“印刷显示工艺与器件”两个主题11个分论坛进行，议题涵盖了可印刷小分子OLED（有机发光二极管）材料、聚合物与量子点发光材料、TFT材料、透明电极/电极互连材料、彩色电子纸显示材料以及相关显示工艺与器件等。各分论坛讨论均由相关领域著名专家主持，围绕印刷显示技术中各类材料及生产工艺等关键技术和产品的研发展开讨论。专家们对显示技术的材料、下一代工艺、技术路线以及标准等达成了共识，并确定了成熟一项发展一项的“沿途下蛋”的技术发展路线。中科院苏州纳米所印刷电子中心主任崔铮教授介绍了已成功在深圳欧菲光科技股份有限公司产业化的金属网栅技术，东省领军人才周国富教授介绍了我校成功自主研发的电子终端产品手机第二屏，相信大家在不久可以使用到此类产品。与会期间，各参会代表参观了彩色动态电子纸显示技术研究所的实验室及正在建设的电润湿电子纸G2.5代中试线。专家们在对彩色动态电子显示技术研究所现取得的科研成果给予了高度评价的同时也表示对其未来的发展充满了期待。
 　　10日下午，会议专家组对本次研讨会进行讨论总结并形成了纲领性会议文件，同时就全国第四次印刷显示及关键材料技术研讨会相关事宜进行了商议。

　　 拟稿人：杨斌、李文辉  审核人：周国富、贺浪萍