11月9日～11月10日，第三次印刷显示及关键材料技术研讨会在我校华南先进光电子研究院召开。研讨会由我校彩色动态电子纸显示技术研究所承办及筹备组织。中国科学院化学研究所、中国科学院金属研究所、浙江大学、武汉大学等14所国内著名研究所、高校的印刷显示领域专家以及TCL集团股份有限公司、上海天马微电子有限公司等知名企业相关代表100余人参加了研讨会。
　　11月9日下午，第三次印刷显示及关键材料技术研讨会开幕。我校东省领军人才周国富教授对与会专家代表表示热烈欢迎。他指出，本次研讨会是在前两次沟通会议所达成共识的基础上召开的，希望会议能够进一步把握行业发展方向，提出战略性意见和建议，通过相关技术的产业化实现合作共赢。
　　研讨会按照“可印刷发光/反射显示材料、TFT材料体系”与“印刷显示工艺与器件”两个主题11个分论坛进行，议题涵盖了可印刷小分子OLED材料、聚合物与量子点发光材料、TFT材料、透明电极/电极互连材料、彩色电子纸显示材料以及相关显示工艺与器件等。各分论坛讨论均由相关领域著名专家主持，代表们结合研究现状提出了发展遇到的困难，深入探讨了各自研究方向的热点和难点，集思广益，寻找未来努力的方向与规划的启发。
　　10日下午，会议专家组对本次研讨会进行讨论总结并形成了纲领性会议文件，同时就第四次印刷显示及关键材料技术研讨会相关事宜进行了商议。

　　拟稿人：邓秋霞、李文辉  审核人：周国富、贺浪萍