9月21日至22日，中国科学院刘明院士应邀莅临我校进行学术交流，并在大学城校区理5栋2楼报告厅为我校“新世纪讲坛”作了主题为《集成电路技术发展态势与机遇》的学术报告。

报告会上，刘明以数位集成电路研究领域的先锋人物为基点，向在座师生回顾了集成电路的发展历史，并以贝尔实验室的晶体管研究诞生为起点，幽默风趣地介绍了集成电路研究领域的重要研究内容。结合集成电路的发展技术驱动力、材料选择、半导体产业规模发展和集成电路对不同产业领域的推动作用，刘明多方面阐述当前集成电路研究领域面临的机遇与挑战。针对当前半导体产业规模的快速发展，刘明以丰富的数据分析了当前集成电路产业的发展态势，并说明其已超过钢铁行业，甚至赶上汽车行业的发展，年增长率高，集成电路领域研究具有极好的市场前景。刘明也针对研究中不可避免的问题，如器件进入纳米尺度后面临的漏电增大、互连等情况，以及应对的这些问题的新策略，为功能化、多元化发展指出了途径，并借助元素周期表、各种数据曲线和前沿研究数据，展示了集成电路研究的独特科学包容性。

我校大学城校区物理与电信工程学院、信息光电子科技学院、华南先进光电子研究院的唐志列教授、水玲玲教授、陈佳佳教授、高兴森教授、李榕教授等200多名师生参加了报告会，并与刘明进行了交流探讨。研究院党总支陈必华书记为报告会致辞，感谢刘明莅临指导，勉励大家向顶级专家学习，在科学研究道路不断开拓进取。

刘明是应我校南粤百杰“杰出人才”、“广东省领军人才”、华南先进光电子研究院院长周国富教授邀请莅临我校的。期间，我校副校长朱竑教授、广东省新型平板显示技术创新团队负责人Robert A. Hayes教授等也与刘明进行了学术交流和探讨，并对研究院教育部光信息国际合作联合实验室（LOIT）、光流技术与系统国际联合实验室（LOTS）等进行了参观指导。

 

撰稿人：龚颖欣、李文辉、周莹  摄影：郑明智、陈林  审稿人：陈必华、周国富